AlliedVision Application semiconductor inspection

고급 웨이퍼 표면 분석용 반도체 검사 카메라

결함을 정밀하게 검출하여 일관되고 고품질의 반도체 생산을 보장합니다

정밀 검사를 위해 설계된 산업용 카메라로 우수한 반도체 품질을 달성하십시오. 생산 과정에서 결함 감지 및 공정 신뢰성을 향상시키십시오.

도전과 과제 및 동향

Semicon, Electronics & Display inspection

모든 웨이퍼에서 매번 미세한 결함 탐지

사소한 결함도 심각한 수율 손실로 이어질 수 있습니다. 대형 웨이퍼 전체에서 이를 탐지하려면 속도와 고해상도 이미징이 동시에 요구되며, 모든 구석을 타협 없이 커버해야 합니다.

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단 하나의 결함도 놓치지 않으면서 고속 유지

표면 검사 완료는 엄격한 사이클 시간에 맞춰 진행되어야 합니다. 느린 스캐닝은 생산 병목 현상과 처리량 감소를 초래할 위험이 있으므로, 모든 단계에서 속도와 효율성이 매우 중요합니다.

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다양한 결함 유형 및 표면에 대한 조명 조정

각 결함 유형과 표면은 고유한 가시성 문제를 야기합니다. 고속 스캐닝 시 결함 누락과 수율 저하를 방지하려면 충분한 광도 확보가 필수적입니다.

기술적 요구사항

  • 웨이퍼 또는 반도체 생산 공정에서 신뢰할 수 있는 결함 검출을 위한 고해상도 이미징
  • 모든 층을 관통하여 최고 수준의 정확도로 관측하는 SWIR 감지 카메라
  • 고해상도 이미징이 필요한 반도체 검사를 위한 높은 대역폭 
  • 생산 처리량 증대를 위한 고속 프레임 레이트의 최첨단 센서
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